中频溅射中什么是偏压

1. 中频溅射中什么是偏压

中频（磁控）溅射和偏压是两个不同的概念。
在磁控溅射离子镀之中，偏压是指施加在工件上的负电压，用来施加偏压的电源叫做偏压电源。
中频溅射是用来镀膜的，中频溅射靶的电源叫做中频电源。
如果还不清楚可以百度Hi我。

2. 我是初学者之前那个对我很有用。但我加的是射频，偏压是直流的

再细致的解决方法要涉及我的专利技术了。

3. 磁控溅射二氧化硅靶材的过程中会有氧产生吗

溅射靶材的温度取决于能量的高低，举例：-1气压，功率5KW，偏压0。靶材表面温度为200度左右，基片温度不会高于100度~如果上升到10Kw，靶材表面温度会接近400度，基片会达到150度左右，我说的基片距离靶材有10厘米左右~ 此时热量为热辐射传热

4. 磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气（高纯），反应气体是氧（高纯），在基片上需要生成三氧化二铟

氧流量，控制靶中毒。
沉积膜时的时间，
基材的清洁问题，

5. 磁控溅射时，采用高纯锌靶，但是在溅射的过程中出现辉光，中间有个很亮的点在转动，电流很高，电压低，

不是靶材中毒，靶材中毒是磁控溅射过程中，靶材磁场较强的地方轰击较严重，刻蚀出较深的沟槽，减少了靶的寿命。
如果在起辉后发现异常现象请按照接地是否良好，反射率是否太高，自偏压是否过大的顺序来检查。

6. 磁控溅射Cu的时候，基底温度大概有多少度？要是溅射铝呢？能不能在塑料上溅射铜呢？

一般的磁控溅射基材都是不加温的，镀膜过程中，原子、原子团、分子沉积在基材上引起的温度升高一般不会太高，当然如果想附着力提高的话，提前预热基材倒是可以的。一般普通磁控溅射基材温度也就40-50℃。溅射材质关系不是太大，倒是溅射功率影响很大，调整溅射功率控制基材温度吧。塑料上镀膜一般没有问题，国内多家手机壳镀膜都在实现。主要就是需要提前对塑料基材进行去油、清洗等处理。

7. 射频溅射加偏压和直流溅射中加偏压，有什么不同现象

中频（磁控）溅射和偏压是两个不同的概念。在磁控溅射离子镀之中，偏压是指施加在工件上的负电压，用来施加偏压的电源叫做偏压电源。中频溅射是用来镀膜的，中频溅射靶的电源叫做中频电源。如果还不清楚可以百度Hi我。